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Farfulla objetivos de Haohai tantalio se caracterizan por su microestructura uniforme y de alta densidad y textura controlado, que promueve la farfulla tarifas uniformes y generalmente superior comportamiento de sputtering, ganar reputación muy buena en todo el mundo.

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Detalles

TANTALIO FARFULLA OBJETIVOS


Farfulla objetivos de tantalio hacen recubrimientos delgados a través de un proceso de la farfulla de cobre interconexión metalización, medios de grabación magnética, componentes de la impresora, monitores de pantalla plana, vidrio óptico y industrial y resistencias de película delgada.

Farfulla objetivos de Haohai tantalio se caracterizan por su microestructura uniforme y de alta densidad y textura controlado, que promueve la farfulla tarifas uniformes y generalmente superior comportamiento de sputtering, ganar reputación muy buena en todo el mundo.

Haohai tantalio farfulla objetivos incluyen metas farfulla rotativa monolítica de tantalio, tántalo planar farfulla objetivos y objetivos catódica de tantalio.



Tantalio monolítico cilíndrico (Rotary, rotativo) farfulla objetivos

Gama de fabricación

OD (mm)

ID (mm)

Longitud (mm)

Por encargo

50 - 300

30 - 280

100 - 3000


Especificación

Composición

TA

Pureza

3.5N (99.95%),4N (99.99%), 4.5N (99.995%)

Densidad

16,6 g/cm3

Tamaños de grano

andlt; 80 micras o a petición

Procesos de fabricación

Haz de electrones (EB) de fusión, forja, extrusión, mecanizado

Forma

Recto, hueso de perro

Tipos de extremo

SCI, SRF, DSF, RFF, WFF, VA, GPI termina fijación, surco de la espiral, por encargo

Superficie

RA 1.6 micrones o a petición

Otra especificación

Vapor de desgrasado y desmagnetizadas después del mecanizado final

ID a ser afilado con PIEDRA y TIERRA OD después tubo crudo se produce para asegurar concentricidad OD ID cumple requisitos de dibujos.

Alto vacío apretado, fuga en cualquier lugar no debe exceder de 1 x 10-8STD CC/SEG.

Sellado de plástico, envuelto en espuma para proteger y extremos capsulados proteger el sello de superficies


Tamaños normales

Rotary de tantalio

Blanco de sputtering

Tamaños normales

ID 55mm x 70 mm OD x 1334 mm de largo

Identificación de 80mm x 100mm OD x largo

ID de 125mm x 153 mm OD x 576 mm de largo

ID de 125mm x 153 mm OD x 800 mm de largo

ID de 125mm x 153 mm OD x 895 mm de largo

ID de 125mm x 155 mm OD x 895 mm de largo

ID de 125mm x 153 mm OD x 1172 mm de largo

ID de 125mm x 153 mm OD x 1676 mm de largo

ID de 125mm x 153 mm OD x 1940 mm de largo

ID de 125mm x 153 mm OD x 1994 mm de largo

ID de 125mm x 153 mm OD x 2420 mm de largo

ID de 125mm x 153 mm OD x 3191 mm de largo

ID de 125mm x 153 mm OD x 3582 mm de largo

ID de 125mm x 153mm OD x largo

ID de 125mm x 180 mm OD x 624 mm de largo

ID 194mm x 219 mm OD x 2301 mm de largo



Tantalio Planar (rectangular, Circular) blanco de Sputtering

Gama de fabricación

Rectángulo de

Longitud (mm)

Ancho (mm)

Espesor (mm)

Por encargo

10 - 2000

10 - 800

1.0 - 25

Circular

Diámetro (mm)


Espesor (mm)

10 - 1000


1.0 - 50


Especificación

Composición

TA

Pureza

3.5N (99.95%), 4N (99.99%),4.5N (99.995%)

Densidad

16,6 g/cm3

Tamaños de grano

andlt; 80 micras o a petición

Procesos de fabricación

Haz de electrones (EB) de fusión,Forja, laminado, mecanizado

Forma

Placa, disco, paso, medida

Tipos

Objetivo monolítico, multi-dividido en segmentos

Superficie

RA 1.6 micrones o a petición

Otras especificaciones

Nos aseguramos de la misma dirección del grano en las partes de construcción multi-dividido en segmentos.

Llanura, superficie limpia, pulida, libre de aceite, punto, crack, etc..




Cátodos de arco de tantalio

Suministramos los cátodos de arco rotatorio y planar de tantalio así como rotativas y planas farfulla objetivos




Para nuestro arco cátodos y tantalio farfulla objetivos


Tolerancia

Según los dibujos o a petición.


Hay una variedad de niveles de pureza con diferentes precios y disponibilidad. Pureza se mide por CC de Plasma y gases son medidos por los analizadores LECO. Hay disponibilidad de pruebas más detalladas por GDMS (resplandor descarga Mass Spectrometry).


Contenido de impurezas [ppm]

Pureza [%]

Elementos

3N5

[99.95]

4N

[99.99]

4N5

[99.995]

Impurezas metálicas [μg/g]

Al

10

1

0.5

CA

10

1

1

Cl

3

1

1

Co

10

1

0.5

CR

10

1

0.5

Cu

5

1

0.5

Fe

50

5

1

K

2

0.4

0.1

Li

1

0.5

0.05

Mg

10

1

0.5

MN

10

1

0.5

Mo

50

10

10

Na

1

0.4

0.4

NB

300

100

50

Ni

20

5

1

PB

5

1

1

Si

10

1

0.5

SN

10

1

1

Ti

10

1

1

V

5

1

1

W

150

80

50

Zn

5

1

1

ZR

20

5

1

Impurezas no metálicas [μg/g]

C

40

30

30

O

100

80

80

H

10

10

5

N

40

20

20

S

10

5

1

Garantizada la densidad [g/cm3]

16.6

16.6

16.6

Tamaño de grano [μm]

100

100

100

Conductividad térmica [con (m.k)]

Max.60

Max.60

Max.60

Coeficiente de expansión térmica [1/K]

6.3-6

6.3-6

6.3-6

Aplicación

Gran capa de vidrio

Recubrimiento resistente al desgaste

Capa óptica

Semi-conductive



Haohai Metal, equipado con fábrica de profesionales, es uno de los principales fabricantes y proveedores de distintos tamaños de los productos de la vinculación. Somos un tántalo blanco alta pureza, arco monolítico, planar, catódica, recubrimiento pvd, deposición de película delgada, ta la farfulla del magnetrón proveedor y fabricante de blancos de la farfulla. Bienvenidos a compra y venta por mayor nuestros productos con precio bajo, alto uso, alta pureza y alta calidad con nuestros productores.

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