Objetivo de Sputtering de Vanadio, Alta Pureza, Monolítico, Rotatorio, Rotatorio, Cilíndrico, Planar, Arco Catódico, Revestimiento PVD, Deposición de Película Delgada, Objetivos de Sputtering del Magnetrón V

Haohai se especializa en la producción de objetivos de pulverización de vanadio de alta pureza con la densidad más alta posible y tamaños de grano medios más pequeños posibles para uso en visualización de semiconductor, deposición física de vapor (PVD) y aplicaciones ópticas. Nuestros objetivos de pulverización de vanadio para películas delgadas están disponibles monoblock rotativo, objetivos planares o unidos con objetivos planos con diferentes formas y dimensiones.

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Detalles


VANADIUM SPUTTERING TARGET


El vanadio es un metal suave y dúctil, gris plata. Tiene buena resistencia a la corrosión por álcalis, ácido sulfúrico y ácido clorhídrico. Se oxida fácilmente a aproximadamente 933 K (660 C). El vanadio tiene una buena resistencia estructural y una sección transversal de neutrones de baja fisión, lo que la hace útil en aplicaciones nucleares. Aunque es un metal, comparte con cromo y manganeso la propiedad de tener óxidos de valencia con propiedades ácidas.

 

Haohai se especializa en la producción de objetivos de pulverización de vanadio de alta pureza con la densidad más alta posible y tamaños de grano medios más pequeños posibles para uso en visualización de semiconductor, deposición física de vapor (PVD) y aplicaciones ópticas. Nuestros objetivos de pulverización de vanadio para películas delgadas están disponibles monoblock rotativo, objetivos planares o unidos con objetivos planos con diferentes formas y dimensiones.

 

Los objetivos de pulverización de vanadio de Haohai incluyen objetivos de pulverización rotativos monolíticos de vanadio, objetivos de pulverización plana de vanadio y objetivos catódicos de vanadio.




Objetivo de rociado giratorio (giratorio, cilíndrico) del vanadio


Rango de fabricación

OD (mm)

ID (mm)

Longitud (mm)

Hecho a medida

50 - 300

30 - 280

100 - 4000


Especificación

Composición

V

Pureza

2N5 (99,5%), 2N7 (99,7%), 3N (99,9%), 3N5 (99,95%), 4N (99,99%),

Densidad

6,11 g / cm3

Tamaños de grano

<80 micras="" o="" bajo="">

Procesos de Fabricación

Vaciado Fundición, forja, extrusión, mecanizado, unión

Forma

Derecho, hueso de perro

Tipos finales

SCI, SRF, DSF, RFF, WFF, VA, Beakert, GPI fija la fijación, Ranura espiral,

Hecho a medida

Superficie

Ra 1,6 micras


Otras especificaciones

Desengrase el vapor y desmagnetizado después del mecanizado final

ID para ser HONED y OD GROUND después de producirse el tubo sin procesar para asegurar que la ID a OD concentricidad cumple con los requisitos de dibujo.

Alta presión de vacío, tasa de fugas en cualquier lugar que no exceda de 1 x 10 -8 STD CC / SEC.

Sellado en plástico, envuelto en espuma para proteger, y los extremos tapados para proteger las superficies de sellado


Tamaños normales

Vanadium Rotary

Sputtering Target

Tamaños normales

80mm ID x 100mm OD x largo

125mm ID x 153mm OD x 895mm de largo

125mm ID x 153mm OD x 1172mm de largo

125mm ID x 153mm OD x 1290mm de largo

125mm ID x 153mm OD x 1676mm de largo

125mm ID x 153mm OD x 1940mm de largo

125mm ID x 153mm OD x 2420mm de largo

125mm ID x 153mm OD x 3191mm de largo

125 mm ID x 153 mm OD x 3852 mm de largo


En comparación con las configuraciones planas de titanio, los objetivos de pulverización cilíndrica de titanio de Haohai ofrecen:

Zonas de erosión más grandes que proporcionan entre 2 y 2,5 veces la utilización del material.

Vida útil más larga que reduce la frecuencia del tiempo de inactividad para los cambios y el mantenimiento de la cámara.

Fabricación personalizada en formatos monolíticos, segmentados o térmicos.

Características finales que se mecanizan con precisión para diseños individuales de sistemas catódicos.

Reducir el costo de propiedad para las operaciones de revestimiento de grandes superficies.

Variedad de materiales incluyendo.

✦ El tamaño de grano óptimo y la microestructura uniforme garantizan un rendimiento uniforme del proceso hasta el final de su vida útil.

La homogeneidad completa y los niveles de pureza altos producen una cobertura uniforme.

Capaz de suministrar materiales a cualquier operación de tamaño de I + D a la producción a gran escala.




Objetivo de Sputtering de Planar (Rectángulo, Circular) de Vanadio


Rango de fabricación

Rectángulo

Longitud (mm)

Ancho (mm)

Espesor (mm)

Hecho a medida

10 - 2000

10 - 600

1,0 - 25

Circular

Diámetro (mm)


Espesor (mm)

10 - 400


1,0 - 25

 

Especificación

Composición

V

Pureza

2N5 (99,5%), 3N (99,9%), 3,5N (99,95%), 4N (99,99%),

Densidad

6,11 g / cm3

Tamaños de grano

<80 micras="" o="" bajo="">

Procesos de Fabricación

Fundición al vacío, forjado, laminado, mecanizado

Forma

Placa, disco, paso, abajo de pernos, roscado, por encargo

Tipo

Objetivo Monolítico, Multi-segmentado, Vinculación

Superficie

Ra 1,6 micras o bajo demanda

 

Otras Especificaciones

  Aseguramos la misma dirección de grano en las piezas de construcción de varios segmentos.

  Plano, superficie limpia, pulido, libre de grietas, aceite, punto, etc.




Cámaras de arco de vanadio

Suministramos cátodos de arco de rotación y planar de vanadio así como objetivos de pulverización rotacional y planar de vanadio




Para nuestro Objetivo de Sputtering de Vanadio y Codos de Arco


Tolerancia

Acc. a dibujos o solicitud.


Contenido de impurezas [ppm]

Pureza del vanadio [%]

Elementos

2N5

[99.5]

3N5

[99.95]

Impurezas metálicas [μg / g]

Alabama

350

50

California

200

50

Cr

100

50

Cu

50

50

Fe

800

200

Mes

500

130

NI

300

50

Si

800

150

Sn

100

30

Ti

250

150

Impurezas no metálicas [μg / g]

do

150

50

O

400

200

MARIDO

30

20

norte

200

50

Densidad Garantizada [g / cm 3 ]

6,11

6,11

Tamaño del Grano [μm]

80

80

Conductividad térmica [W / (mK)]

30,7

30,7

Coeficiente de expansión térmica [1 / K]

8,4 - 6

8,4 - 6


Métodos analíticos:

1. Se analizaron los elementos metálicos usando GDMS (Precisión y sesgo típico de las mediciones de GDMS se discuten bajo ASTM F1593).

2. Los elementos de gas se analizaron utilizando el analizador LECO GAS.

C, S determinado por Combustion-lR

N, H determinado por IGF-TC

O determinado por IGF-NDIR


Solicitud

Revestimiento de vidrio de gran superficie

Industria electrónica

Revestimiento resistente al desgaste

Recubrimiento Decorativo



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